扇出型晶圆级封装(Fan-Out Wafer-Level Packaging,FOWLP)凭借其无基板、薄型化、高密度布线的技术特点,已广泛应用于移动终端、可穿戴设备、高性能计算及汽车电子等领域。然而,随着封装结构日趋复杂、集成度持续攀升,分层(Delamination)问题成为制约FOWLP良率与长期可靠性的主要失效模式之一。如何快速识别分层根因、有效优化工艺参数,是封装工程领域持续关注的课题。3D表面形貌分析技术作为一种非接触式、高分辨率的表面表征手段,能够从微观尺度揭示分层缺陷的形貌特征与演化规律,为工艺改进提供有力的数据支撑。